45还是28，路阳肯定是想直接一步到位的，但他现在不清楚双工件台技术是否匹配，还有海思这边的研发实力，如果选择了后者连设备都启动不了，那就算有系统也白费。

廖锡昌知道路阳的想法，肃然说道：

“选择45还是28，我给诸位一个参考方向，第一，就是要能让机器顺利运行，第二，研发进度的预估，如果28纳米需要用1年时间才出结果，那肯定是选择45纳米，这需要何总这边的考量。”

何洪年皱眉紧思，手中的资料并不复杂，里面详细介绍了每项技术的进度，如果是单工件台技术，28纳米的机会也不小，但是双工件台的话，他不好预估。

几名相关方向的总工也开始议论起来，

“华卓工件的朱教授我认识，去年我曾去那边看过，他们双工件台的技术还停留在低端制程上，单工件台可以达到90纳米的精度，距离我们的要求还很远。”

路阳听后大受打击，2018年的技术还差这么远吗？

廖老说道：“你这个判断是对的，申城微电子90纳米DUV光刻机使用的就是华卓的工件台，资料各位也看到了，关于工件台与控制系统，90纳米的制程技术是比较成熟的，以海思的研发实力，我相信如果选择单工件台，45或者28各位应该有一定的把握，对吗？”

温天洋缓缓说道：“廖老过誉了，工件台主要还是超高精度的控制问题，工件台用于承载硅片，掩模台用于承载掩模板，实现对准、调平调焦、步进和扫描曝光的功能，两者需要在高速、高加速度下实现纳米级甚至亚纳米级的精度，28纳米的精度需要对工件台和掩模台的跟踪定位精度要求小于1纳米。”

另外一名总工补充道：“双工件台，一个台子用于测量，一个台子用于曝光，两者之间的精密同步才是最难的地方，如果研发单工件台，我们无需考虑同步问题，如果是双工件台，那所需的工作量不是翻一倍那么简单。”

路阳开始有点跟不上节奏了，ASML的EUV光刻机目前使用的也只是单工件台，由此可知两者的之间的技术难度有多大。

廖老沉思几秒，说道：“何总，如果只是让工件台顺利运行，暂时不考虑误差，你们把握如何？”

看来廖老跟路阳的想法一致，都是想一步到位，利用路阳的能力实现优化。

对廖老的问题，何洪年感觉到有些诧异，作为华国芯片第一人，在研发上不该如此激进，想了下还是回答道：

“如果不考虑误差的话，我想年前我们能攻关出来，不过误差的后续调整往往会直接卡住整个项目，到时可能都得一切从来。”

一旁的几名总工也附和道，光刻机本来就是最精密的设备，不考虑误差最后的成品便无法交付。

“既然诸位都签了保密协议，有些事你们知道也无妨，现在我们正全力研发EUV光刻机，在工件台方面，有华科院还有十几所高校的专家正在全力计算，如果两边在一些通用计算上能配合起来，会省很大的功夫。”

廖老也只是找了个借口，没想到海思众人脸上却是一副原来如此的表情。

温天洋这下完全明白了为何在这么关键的时候，华微抽调这么多的研发人员，孤注一掷，押宝华芯，EUV三个字深深印入了他的脑海。

“如果是这样的话，我建议直接上28纳米，双工件台！”