毕竟这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。

当时尚是小角色的阿斯麦决定赌一把，相比之前在传统干式微影上的投入，押注浸润式技术更有可能以小博大。

于是和林本坚一拍即合，仅用一年时间，就在2004年拼全力赶出了第一台样机，并先后夺下IBM和台积电等大客户的订单。

尼康晚了半步，很快也就亮出了干式微影157nm技术的成品，但毕竟被阿斯麦抢了头阵，更何况波长还略落后于对手。

等到一年后又完成了对浸润式技术的追赶，客户却已经不承认“老情人”，毕竟光刻机又不是小朋友玩具，更替要钱，学习更要成本。

随后两者的差距越拉越大，尼康的光刻机也就只能在中低端使用了。

（注意：我们现在说的光刻机制程绝大部分都是“浸润式”DUV深紫外光光刻机，7nm以下用的才是EUV极紫外光光刻机。）

……

因此，可以说林本坚提出的“浸润式”光刻技术既是推动光刻机技术继续发展的理论，也是改变光刻机格局的潜在推动力量。

而这也是李星灿做出那个“不人道”决定的原因——李星灿想打断光刻机的进程，从而维持一段时间内相对均衡的局势。

一段时间内相对均衡的光刻机厂商局面，对于想要追赶的中国来说，形成的外部环境优势会更加明显。

同时在未来，中国将会有更多的时间和机会去追赶。

（至于有些某点小说，上来就敢搞光刻机的，那真的都是神仙——都tm可以“无中生有”！当然另一方面娱乐至上的话，也可以理解……）

对于像中芯国际这样的顾客来说，“一家独大”远不如“各有千秋”来得好。

这也是Intel扶持尼康的原因之一，当然后来实在是扶不动（尼康的技术实在不行。），就被放弃了。

除此之外，李星灿对于台积电的整体感官也并不太好，这也减轻李星灿的道德压力。（或者说，有些敌视。）

2008年前后，台积电曾两次状告“中芯国际”技术侵权，强制迫使创始人张汝京离职，“中芯国际”迅速崛起的势头一下子顿挫，看样子似乎就是想把中芯国际扼杀在摇篮里。

当然，商场如战场，从法理的角度来说，这么做也没什么。

但是在2018年的一次采访，张忠谋又说了：“中国大陆不应该搞芯片制造，而应该注重于芯片设计领域，芯片制造交给台湾就好了。”

你要是在中国介入芯片制造这个领域之前，一开始就说这个话，那可以说是提意见和看法。

但是在2018年这个节点，中国已经摆好姿态，摆明要在半导体的各个领域开始发力，你再说这个话，怎么看都是想扰乱中国半导体发展的局势，在为自己谋取利益。

……

当然从事实来说，我们不可否认的是正如张忠谋说的那样，在芯片制造领域很难弯道超车。

但是就像当年造原子弹（从技术上来说，光刻机比当初造原子弹更难）的时候，老大哥有，但是它不给，还搞技术封锁。

与此同时，面临的国际局势也很艰难，但是我们也没有选择放弃。

却说出来一句充满艰辛而又饱含深情的话：“爹有娘有（现在是儿子有），不如自己有。”