苏硅的5条芯片生产线，IGBT与MCU芯片各占两条，另一条为45纳米座舱芯片，从流片成功至今从未停过，其中利润最高的是座舱芯片，MCU利润最低，技术难度不高。

路阳最终还是选择暂停其中一条MCU芯片生产线，用来改造升级。

王顺和带着路阳与海思众人来到生产线，

“路总、何总，这台便是用来生产MCU芯片的光刻机，已经连续三个月运行了，良品率一直在95%以上，设备各方面情况都比较稳定，没有出现过大问题。”

看着净室内的光刻机，海思众人双眼放光，这还是他们第一次如此近距离的见到光刻机。

浸润式光刻机的原理并不复杂，一句话概括就是以紫外光作为刀头，在晶圆上进行成像。

在光刻机内部，紫外光从照明模组内部发出，射过掩膜板，穿过投影物镜模组中的大镜头，再经过浸润式光刻模组中的那滴水，最终到达晶圆表面，对晶圆进行成像。

在成像过程中，晶圆的温度会不断升高，所以需要一股不断流动的水对晶圆降温，而这股流动的水又必须像镜片一样光滑，不能有任何的扰动，一丁点的扰动都会使整片晶圆报废。

把一股流动的水做成光学镜头，光是想象都知道有多难，其工艺精度不亚于镜片的打磨。

水中的金属离子会影响器件的阈值电压，溶解气体会干扰硅片的氧化覆膜，细菌有机物会导致PN结的短路漏电，细小颗粒物会造成硅片表面缺陷，所以能接触硅片的就必须是超纯水。

没有金属离子，没有细小颗粒，没有细菌与溶解气体，只有氢氧元素组成的水就是超纯水。

目前全世界最纯净的水就被称为半导体级超纯水，它的各项指标比医用无菌注射水还要严格数百倍。

王顺和开始给众人介绍超纯水的过程，这里面至少要经过三个阶段。

第一步，自来水净化，成为纯净水，纯水超净化，成为超纯水，第一阶段又叫水质预处理，使用多介质过滤器与超滤设备来去除水中的绝大部分颗粒物，悬浮物和胶体，最后还要加活性碳过滤器来吸附有机物或者亚硫酸氢钠。

第二步，主处理过滤，除了前面的多种设备过滤外，还包括紫外灯照射灭菌氧化分解有机物，连续电解除盐技术解决水中剩余的阴阳离子，最后用真空出气机和多级脱气膜来去除水中的各类溶解气体。

通过前两步得到的水需要存储在充满氮气的水槽中，这个级别的水已经接近于医用级别，但对半导体芯片来说还远远不够。

第三步，水的精致处理，这一步其实就是前两步的梅开二度，把之前出现过的各种净水装置集结在一个管道系统中，让纯水在其中高速循环，再来亿遍，确保纯水成为超纯水，并且一直需要保持循环。

这三步下来，自来水大概要损失3至4成水量，耗能大户并非浪得虚名。

这么精贵的水，不仅要用来做湿法清洗，还包括了浸没式光刻，配置刻蚀溶液，化学机械抛光，硅片切割降温等等。

相同的设备与工艺流程搬到的不同的地方，可能导致生产良率与芯片质量的不同，业内常开玩笑说芯片厂很玄学，牵扯到风水问题，当然这个风水不是玄学。