也就是，在即将到来的2002年，全球芯片产业进入发展瓶颈期，摩尔定律也因此止步不前。

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摩尔定律是由英特尔（Intel）创始人之一戈登·摩尔（Gordon Moore）提出来的。

其内容为：当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会新增一倍，性能也将提升一倍。

换言之，每一美元所能买到的电脑效能，将每隔18-24个月翻一倍以上。这一定律揭示了信息技术进步的速度。

后来人们对它进行归纳，主要有以下三种“版本”：

1.集成电路芯片上所集成的电路的数目，每隔18-24个月就翻一番。

2.微处理器的效能每隔18-24个月提高一倍，而价格下降一倍。

3.用一个美元所能买到的电脑效能，每隔18-24个月翻两番。

以上几种说法中，以第一种说法最为普遍，第二、三两种说法涉及到价格因素，其实质是一样的。

三种说法虽然各有千秋，但在一点上是共同的，即“翻番”的周期都是18-24个月，至于“翻一番”（或两番）的是“集成电路芯片上所集成的电路的数目”，是整个“电脑的效能”，还是“一个美元所能买到的效能”就见仁见智了。

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芯片产业所遇到的问题主要出自光刻技术。

光刻技术决定晶片上的最小图形尺寸，可以说是芯片生产中最重要的一道步骤。

此时，业界已经把光刻机的工艺做到了用193纳米波长的光来成像。

若根据摩尔定律把最小图形继续缩小，下一代光刻机所用的波长就应该缩短到157纳米，因为光学的波长越短，越高解析度的影像就可以转接到晶圆的光阻上，让刻出的电路更精细，芯片上就可以承载更多的电路。

芯片里容纳的电路可以越多，效能也就越强。

当时的光刻机以干式光刻技术为主（相对应的是湿法，也就是浸润式光刻技术），干式光刻是以空气作为镜头与晶圆间的介质，让光罩上的图形在晶圆上成像。

然而，从193纳米到157纳米，微缩比例不到20%，达不到摩尔定律的要求。

而业界虽然研发多年，却卡在镜片材料的制造周期上，始终无法达到所需的规格，而且光阻的透明度也很难提高。

由此造成157纳米工艺无法按著摩尔定律要求的期限内完成。

依照此时的进度发展，全球芯片产业甚至摩尔定律都将陷入停滞状态。

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光刻机是一个涉及面非常广的综合体，涉及到了材料学，化学，物理，光学，自动化……等等诸多领域。

当然，李星灿对于光刻机的了解也只是基于一些表面，远说不上什么精通，连整个基本的工艺流程都不是很清楚。

但是出自理工科，又在机械领域有近二十年经验的李星灿很清楚是：

当一个东西涉及到极高的工业精密度的时候，国内的技术储备往往是不怎么行的。

这并不是不自信，而是实情！

最主要的原因还是中国进入高速发展的时间太短了，真正开始重视尖端科技的时间也太短了（基本上可以以“863”计划为起点，也就是1986年3月）。